2015年9月3日--Entegris, Inc. (NASDAQ:ENTG)，為高要求先進製造環境的提升產量材料與解決方案領導廠商，今日在 SEMICON® Taiwan 國際半導體展宣布使用奈米熔噴 (NMB) 過濾技術之 CMP 過濾解決方案平台開發、以及其在台灣關於 CMP 研究、分析服務及製造能力的擴充。這些投資使這家公司能夠進一步滿足先進 CMP 過濾解決方案持續成長中的需求。
Entegris 的液體微污染控制事業部副總裁 Clint Haris 表示：「CMP 製程在所使用的材料及現今裝置各層對更大平坦度的需求兩方面的複雜度都在不斷提升。」「Entegris 在亞洲持續投資人員、技術及設施，以將新的解決方案引進半導體市場。隨著我們的客戶生產的積體電路特徵尺寸愈來愈小，我們的奈米纖維技術減少到達晶圓的污染所致之污染物質的數量。」
使用 NMB 介質的 Entegris 過濾器平台包括 Planargard® bulk、Solaris® point-of-dispense 及 Planarcap® point-of-dispense 系列以在整個 CMP 製程區域提供污染控制解決方案。在台灣開發並製造的 NMB 介質利用增大的奈米纖維多孔性以降低運輸及過濾操作期間施加到研磨液上的剪應力。這些創新使過濾器壽命延長，並且使造成缺陷的污染物的移除情況更佳。
欲知更多資訊，請造訪 http://www.entegris.com/ProductLine_catLiquidFilter_divFiltration_lineLF_CMPSlurry.aspx
關於 Entegris
Entegris 是半導體與其他高科技產業的領導供應商，為這些產業在處理與製造中所用的關鍵材料，提供純化、保護和運輸所需的多種產品。Entegris 通過了 ISO 9001 認證，並在美國、中國、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、南韓和臺灣設有製造工廠、客戶服務中心或研究基地。更多資訊請參閱 www.entegris.com。
