2015年7月16日--應用材料公司近日推出 Applied Olympia™ 原子層沉積 (ALD) 製程系統，採用了獨特的模組化硬體架構，為晶片製造商提供高效能的 ALD 技術，以生產先進的 3D 記憶體與邏輯晶片。目前工業界正朝3D元件製造技術的趨勢轉向，由於對新的圖像成形薄膜 (patterning films)、新的共形材料 (conformal materials)以及降低容熱預算 (thermal budget) 的需求日益增加，推動了ALD製程應用的成長。Olympia系統具備著無可比擬的 ALD 製程效能，最能滿足這些需求；因應業界所需的製程彈性，讓業者可針對多種應用，更精密地設計製程，能有效率地製成各種低溫且高品質的薄膜。
應用材料公司副總裁暨介電系統及模組事業群總經理穆肯．史尼瓦森 (Mukund Srinivasan) 博士表示：「我們的 Olympia 系統是因應 3D 晶圓製程趨勢轉向的重大技術創新。這項系統克服了晶片製造商在使用傳統 ALD 技術時所面臨的基本限制 ; 例如，單晶圓設備的製程方法在化學反應調控上的不足，以及爐管設備過長的製程週期。正因為如此，Olympia 系統已獲得市場的熱烈迴響；多家客戶已安裝了Olympia系統，以支援客戶們朝10奈米及更先進的製程邁進的既定行動。」
Olympia 系統可調整的模組化架構，開創了一種獨一無二、富有彈性、而且快速的製程程序；這對調控愈趨複雜的製程化學反應，以便研發製作新世代的原子層沉積 (ALD) 薄膜，具有產業存活的重要性。此外，模組化的硬體設計可完全分離製程中不同的化學反應物，省去傳統 ALD 技術所需的冗長化學反應氣體除淨步驟，而更進一步地提昇生產力。Olympia 系統的綜合優點，提供了相較於傳統 ALD 系統更為出色的解決方案，也讓這項機台廣受採用。
應用材料公司是全球前五百大公司之一，專為半導體、平面顯示、太陽光電產業提供精密材料工程解決方案。應用材料公司的創新技術可協助諸如智慧型手機、平面電視及太陽能電池更具成本效益，更方便使用。查詢應用材料相關訊息，請至www.appliedmaterials.com。
